Вольфрамовый лист 1х80х260 мм В-МП в Первоуральске

Применение листа толщиной 0.03 мм позволяет создавать сверхтонкую фольгу. Такая фольга необходима для специализированных применений, например, в качестве окон для рентгеновского излучения, мишеней в физических исследованиях или компонентов, где критична минимальная масса.

Лист ВА подвержен коррозии под воздействием газообразного хлора при 100°С. Вольфрам активно реагирует с хлором, образуя летучие хлориды вольфрама, что приводит к быстрому разрушению материала в такой атмосфере.

Для длительной работы листа ВД в инертной среде, например, аргоне или водороде, оптимальны температуры до 2500°С. В этих условиях вольфрам сохраняет свои механические свойства, не подвергаясь значительному окислению или испарению.

Преимущества использования листа ВА в качестве катодов заключаются в его высокой температуре плавления, низкой скорости испарения и стабильной термоэлектронной эмиссии при высоких температурах. Это обеспечивает долгий срок службы катодов и стабильную работу вакуумных приборов.

Состав листа ВА, особенно его чистота и отсутствие примесей, влияют на устойчивость к нейтронному излучению. Чистый вольфрам обладает высоким сечением захвата нейтронов, а допированные марки ВА могут демонстрировать лучшую сопротивляемость радиационному охрупчиванию.

Промышленные стандарты предусматривают требования к температуре отжига вольфрамового листа (например, 1000-1400°С для снятия напряжений или 1500-2000°С для рекристаллизации). Также указываются время выдержки и тип атмосферы (вакуум, водород или инертный газ) для достижения требуемой микроструктуры.

При глубокой вытяжке деталей из вольфрамового листа необходимо учитывать его низкую пластичность при комнатной температуре. Процесс требует нагрева заготовки до температур рекристаллизации, многократных операций с промежуточным отжигом и использования специального оборудования для предотвращения растрескивания.